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指状电磁铁结构设计研究

1两磁极凹槽深度的优化

虽然两磁极磁指区域的磁场强度满足要求,但磁指表面的特征线均匀性较差,用于磁流变抛光会破坏光学元件的表面质量和光整度。不同凹槽深度影响两磁指表面磁场强度的均匀性,因此,对凹槽深度进行了优化,优化结果如图4所示。由图4可知:凹槽深度越大,两相互夹持磁指表面各特征线的磁场强度越不均匀;相反,就越均匀。当凹槽深度为2mm,两相互夹持磁指表面各特征线上的磁场强度大小较为集中,相差不大(即磁场强度较为均匀)。这是因为凹槽越深,两相互夹持的磁指材料越少,传导磁力线的截面越小,则传到两磁极表面的磁力线越少,并且由于尖端效应,导致指长尖端和中间磁场强度相差很大。当凹槽深度为2mm,两相互夹持磁指的各特征线磁场强度最均匀。如两磁极表面间的特征线X7,两端磁场强度具有周期性变化,基本符合对称,理论上可形成均匀磁场。

2集群式指状电磁铁的试验研究

2.1集群式指状电磁铁磁极头性能测试

为了验证集群式指状电磁铁的磁极头结构设计的合理性,需要用特斯拉计测试两磁指表面各特征线的磁场强度,测量结果如图6所示。由图6可知,随着励磁电流的增加,集群式指状电磁铁磁极表面磁感应强度也增大,并且各特征线之间的磁场强度相差不大,均在一段范围内波动,即较为均匀。当电流I由1A增加到3A,磁感应强度增加的幅度较大,而当电流I由3A到3.7A,磁极头的磁场强度增加不大。

2.2激励电流对集群指状电磁铁表面磁场强度的影响

为了验证两磁指表面特征线处磁场强度的误差,需将该区域磁场强度的实测结果与仿真结果进行对比,以确定实测与仿真之间的误差率,对比结果如图7所示。由图7可知,随着励磁电流的增大,磁极头磁指表面磁场强度实测值与仿真值都增大,且当励磁电流达到3A后,磁场强度的实测值与仿真值都基本保持不变。这是因为当励磁电流达到一定程度后,导磁材料的磁场强度已接近饱和,磁导率随之降低,所以,磁极头磁指区域的磁场强度增速趋于停止。磁感应强度的测试曲线与仿真曲线的趋势基本吻合,但最大相对误差值也达到了12.5%,这说明磁极头仿真分析具有一定的误差。

2.3指状电磁铁的集群效果分析

为了定性的检验集群效应,在磁极头磁指区域上方放置一个厚度3~4mm的容器,容器内装有磁性铁粉,将其放置于通电状态下的指状电磁铁上测试集群效应,铁粉形状如图8所示:如图8(a)可知,励磁电流越大,铁粉的集群效应越明显,且当励磁电流达到3A时,集群效应并没有显著提高。由于铁粉被磁场强度把持的硬度与铁粉集群厚度存在对应的关系,因此,通过8(b)的实验结果可以得知,铁粉集群厚度随着励磁电流的增加而增加。这是因为,励磁电流增加,导磁材料的磁导率也会随着增加,集群点阵表面释放的磁场增强也会增强,瞬间被磁化的铁粉硬度也增加,由于铁粉之间的相互磁化作用,导致铁粉相互堆积厚度增加,集群效应明显。而磁场强度较小的单个永磁体,导致铁粉磁化面积较小,因此在其表面形成不了面域磁场。

3结论

根据集群磁流变效应抛光加工技术,设计出了一种集群式指状电磁铁,详细分析并优化了指状电磁铁的结构参数,依据优化参数加工出实物进行试验,试验结果满足集群磁流变抛光对磁场强度的要求。根据集群效应的思想,设计了一种电磁式指状电磁铁结构,通过对凹槽间隙和是否圆弧处理进行仿真优化,得出当凹槽间隙为1mm且凹槽处圆弧处理,两相互夹持的磁指表面磁场强度较大。利用Ansoft软件对凹槽深度进行优化,得出当深度为2mm时,磁指尖端和中间的磁场强度相差最小,磁极头表面集群点阵磁场强度较为均匀。磁极头磁感应强度的测试曲线与仿真曲线趋势基本吻合,符合集群效应,但最大相对误差值达到12.5%,在距离磁极表面4mm处,磁感应强度B值达到800~120粮食经济论文0Gs范围,满足集群磁流变抛光对磁场强度的要求。

作者:童和平 谢波 张香红 张洲 单位:广东理工职业学院


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